한국 반도체 업계, 중국 추격 속 인재·기술 보호 강화 필요성 부각

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Ciaran Ryan

21시간 전

한국 반도체 업계, 중국 추격 속 인재·기술 보호 강화 필요성 부각 — 반도체 기술 보호 비상

중국 D램 업체 CXMT가 상하이 증시 상장을 통해 대규모 자금 조달에 나서면서 한국 메모리 업계의 기술 우위 방어 과제가 다시 커지고 있다. 고대역폭메모리와 EUV 장비 등 첨단 분야에서 중국의 추격 속도가 빨라질 수 있다는 관측 속에 국내에서는 인재 보상, 병역 특례, 연구 환경 개선, 기술 유출 처벌 강화가 핵심 대응책으로 제시된다.

하이라이트

중국 CXMT가 27일 상하이 증권거래소 상장과 666억 위안 자금 조달로 삼성전자·SK하이닉스 추격 기반을 마련했다.
기술 유출 리스크와 중국발 공급 확대에 따라 삼성전자·SK하이닉스 영업이익이 AI 메모리 시장 둔화 시 급격히 악화할 수 있다.
지난 5년간 해외로 유출된 산업기술 중 반도체 비중과 피해가 수십조 원에 달해, 대만·U.S.처럼 처벌 강화와 기술동맹 공조 필요성이 제기됐다.

중국 투자 확대와 대응 과제

서울경제신문(Seoul Economic Daily)과의 인터뷰에서 이병철 세종연구소 객원연구위원은 중국이 반도체 산업 육성을 국가 차원의 핵심 과제로 두고 EUV 노광장비 자체 개발을 위해 ASML 출신 엔지니어들까지 적극적으로 영입하고 있다고 진단했다. 그는 중국 최대 D램 기업인 CXMT의 27일 상하이 증권거래소 상장 추진과 666억 위안 규모 자금 조달이 삼성전자와 SK하이닉스를 추격하는 발판이 될 수 있다고 봤다.

이 위원은 반도체 경쟁력의 핵심이 결국 인재라고 강조하며 이른바 '4종 패키지' 지원책이 필요하다고 말했다. 그는 반도체 연구 인력이 의사나 금융권 종사자보다 매력적인 직업으로 자리 잡을 수 있도록 성과 보상을 강화하고, HBM 등 성장 기여 인력에 대한 스톡옵션 확대, 청년 인재 육성을 위한 병역 특례, 혁신 연구진의 R&D 환경 개선이 함께 추진돼야 한다고 설명했다.

그는 중국의 기술 추격을 과소평가해서는 안 된다고도 밝혔다. 미국의 대중 수출 통제에도 불구하고 중국 내 연구 시설에서 EUV 노광장비 시제품 성능 시험이 진행 중인 만큼, 중국의 자체 개발이 과거 ASML의 성장 경로만큼 오래 걸릴 것이라고 단정하기 어렵다는 것이다.

수익성 압박과 기술 유출 리스크

이 위원은 글로벌 반도체 시장에서 AI 확산에 따른 수요 증가세가 둔화하는 동시에 중국발 대량 공급이 이어질 경우 삼성전자와 SK하이닉스의 영업이익이 급격히 떨어질 수 있다고 내다봤다. 그는 HBM 우위에 안주하지 말고 PIM, CXL 기반 메모리, 광 메모리 등 차세대 AI 메모리 분야 주도권을 확보해야 한국 반도체 산업의 초격차를 유지할 수 있다고 강조했다.

기술 유출 차단도 핵심 과제로 꼽혔다. 그는 삼성전자와 SK하이닉스의 D램 기술이 중국 CXMT로 유출된 사건과 HBM 패키징 기술 유출 시도가 적발된 사례를 언급하며, 최근 5년간 해외로 유출된 산업기술 가운데 반도체 비중이 가장 크고 피해 규모도 수십조 원에 이른다고 지적했다.

이와 함께 그는 대만과 U.S.처럼 산업기술 유출 처벌을 강화하고, 올해 개정된 간첩 관련 법령을 산업 스파이 사건에 엄정하게 적용할 필요가 있다고 밝혔다. 또한 미국, 네덜란드, 일본 등과의 기술동맹을 통해 대중 수출통제 공조를 강화하면 중국 반도체 굴기의 속도를 늦추는 데 도움이 될 수 있다고 덧붙였다.

저희가 앞서 전한 최태원 SK하이닉스 회장의 ‘AI 수요와 메모리 장기 전망’ 관련 발언에서는 AI 확산이 아직 초기 단계인 만큼 메모리 수요가 중장기적으로 확대될 수 있으며, 이에 따라 단기 매매보다 장기 보유 관점이 중요하다는 점을 짚었습니다. 또한 한국이 단순 메모리 판매에 머무르지 말고 인프라·애플리케이션 중심의 틈새시장과 ‘컴퓨팅 용량·지능 수출’로 전략을 전환하고, 인재 역량을 경쟁력의 핵심으로 삼아야 한다는 방향도 함께 제시했습니다.

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