K반도체, D램 초격차 방어 위해 근로규제 완화와 기술보호 강화 요구 커져

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Sholanke Dele

07.09.2026

K반도체, D램 초격차 방어 위해 근로규제 완화와 기술보호 강화 요구 커져 — D램 초격차 방어전

중국 메모리 업체의 점유율 확대와 기술 추격이 이어지면서 한국 반도체 업계에서는 D램 경쟁력 유지가 산업 전반의 핵심 과제로 떠오르고 있다. 업계는 주 52시간제의 연구개발 예외 적용, 기술 유출 처벌 강화, 미래 반도체 선제투자가 시급하다고 보고 있다.

하이라이트

중국 D램 업체 CXMT가 전 세계 시장점유율 10%를 달성하면서 국내 반도체 업계가 연구개발 규제 완화와 기술 보호 강화 요구를 제기했다.
개정 산업기술보호법으로 해외 유출 범죄 벌금 상한이 15억원에서 65억원으로 상향됐으나, 업계는 처벌 강도가 여전히 약하다고 평가했다.
EUV 노광장비 접근 제한이 한국 D램 초격차의 배경이지만, 중국이 3차원 D램 개발에 성공할 경우 격차가 급격히 줄어들 수 있다고 우려한다.

연구개발 유연화와 보안 강화 요구

매일경제 보도에 따르면 중국 D램 업체 CXMT가 전 세계 시장점유율 10%를 기록하면서 국내 반도체 업계의 경계감이 커지고 있다. 업계는 한국이 LCD와 2차전지처럼 핵심 시장을 중국에 내줄 수 있다는 우려 속에 연구개발 인력에 대한 주 52시간 근무 예외와 기술 유출 처벌 강화를 촉구하고 있다.

현장에서는 반도체 연구개발의 특성상 정해진 시간에 맞춘 획일적 근무 체계가 몰입을 방해한다고 설명한다. 연구 과정에서 성과가 나올 가능성이 높은 순간에 작업이 중단되면 개발 효율이 떨어지고, 기밀 유출 우려로 재택근무도 쉽지 않아 제도 경직성이 더 크게 작용한다는 주장이다.

업계 관계자들과 연구자들은 반도체 성과가 개별 엔지니어의 집중도와 투입 강도에 크게 좌우된다고 말한다. 일부 스타트업은 이런 제약을 피해 베트남에 지사를 세우고 현지 채용을 늘리고 있으며, 업계에서는 이 같은 흐름이 국내 청년 일자리 감소로 이어질 수 있다는 지적도 나온다.

기술 유출에 대한 형사처벌 수위를 더 높여야 한다는 요구도 계속된다. 개정 산업기술보호법으로 국가 핵심 기술 해외 유출 범죄의 벌금 상한이 15억원에서 65억원으로 높아졌지만, 업계는 여전히 해외 주요 경쟁국과 비교해 처벌 강도가 약하다고 보고 있다.

중국 추격과 차세대 투자 압박

업계는 중국이 한국 D램 기술을 아직 완전히 따라잡지 못한 배경으로 EUV 노광장비 접근 제한을 꼽는다. 다만 중국 업체들이 EUV 없이도 구현 가능한 3차원 D램 기술을 선제적으로 개발할 경우 현재의 격차가 빠르게 줄어들 수 있다는 우려가 나온다.

이는 중국 YMTC가 하이브리드 본딩 기술을 바탕으로 한국 기업들을 빠르게 추격한 흐름과 비슷한 장면이 메모리 분야에서도 재현될 수 있다는 의미다. 전문가들은 아직 상용화가 멀더라도 차세대 기술에 대한 선제 투자와 함께 대학, 스타트업과의 개방형 협력을 확대해야 한다고 조언한다.

권지민 KAIST 교수는 향후 반도체 산업에서 3차원 집적과 하이브리드 본딩의 중요성이 더 커질 것으로 보고 있다. 한국 기업들이 기술 보호를 이유로 대학과의 협력을 제한해온 측면이 있는 만큼, 초기 HBM 개발처럼 학계와의 연계가 다시 경쟁력 확보의 변수로 떠오를 가능성이 있다.

삼성그룹의 하반기 정기 공개채용 계획은 AI·반도체·바이오 등 첨단 분야 경쟁력 강화를 위해 대규모 인재를 확보하려는 움직임으로, 우리 매체는 이를 앞서 전했습니다. 19개 관계사가 약 6000명을 모집하고 연간 채용 규모가 1만2000명 수준이 될 수 있으며, 110조 원 투자 집행과 맞물려 기술 인력 수요가 커진다는 점도 함께 짚었습니다.

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