日经 225 指数维持在 39,600 点上方，因科技股反弹提振市场情绪，利好美国数据公布
日经 225 指数在 39,678 点附近盘整，科技股反弹和突破成为焦点
日经225指数周二上涨0.55%，收于39,678点，收复了上一交易日的失地，因美国科技股情绪回升以及对贸易发展的乐观情绪提振了日本股市。半导体和电子产品股领涨，迪斯科、爱德万测试和东京电子均上涨超过1.5%。更广泛的东证股价指数也小幅上涨0.09%，收于2,825点。
亮点
日经 225 指数收盘报 39,678 点，上涨 0.55%，科技股领涨
- RSI 和布林带收窄表明短期盘整阶段
- 突破 40,200 点或将瞄准 42,000 点；支撑位位于 39,300 点和 38,500 点
英伟达首席执行官黄仁勋与美国总统唐纳德·特朗普在北京会晤后，交易员对英伟达将恢复向中国发货H20芯片的消息反应积极。这一消息缓解了人们对进一步限制科技出口的担忧，并支撑了芯片相关股票的反弹。
迅销集团和三菱日联银行也为整体指数的稳定做出了贡献。与此同时，市场参与者正密切关注即将公布的美国通胀和贸易数据，这些数据可能为全球货币政策的走向及其对日本出口型行业的影响提供新的线索。
盘整维持在趋势高点附近
从技术面来看，日经225指数继续遵循自4月以来一直引导价格的上升通道结构。目前，价格正在通道上三分之一附近盘整，4小时图上的20日均线在39,591点提供即时支撑，布林带底部在39,450点提供缓冲。尽管本月初该指数从41,000点水平回落，但其结构性看涨势头依然完好，高点和低点均不断走高。
日经 225 指数预测（来源：TradingView）
动量指标反映的是降温阶段，而非反转。4小时RSI在上周进入超买区域后回落至54.98，暗示上行势头正在减弱。布林带收窄也预示着可能出现区间波动。若果断突破40,200点，或将恢复看涨势头，并上探42,000点；若跌破39,300点，则将关注点转向100日均线支撑位38,500点附近。
在我们之前的报道中，我们强调了40,000点作为短期支点的重要性。目前跌破该水平的停滞证实了这一观点，因为市场要么等待看涨突破，要么等待更深的回调。鉴于即将到来的美国宏观经济触发因素以及板块轮动转向科技股，下一波冲击或将为中期趋势提供明晰。
