AI 반도체와 온디바이스 AI 확산으로 모델 경량화 수요가 커지는 가운데, 노타가 미국 산호세에서 열린 Arm 크리에이트 2026에서 자사 기술 기반 최적화 도구를 개발자들에게 선보이고 있다. 이 도구는 Arm AI 포털에 포함된 얼리 액세스 형태로 제공되며, 개발자가 실제 반도체와 기기 환경에 맞춰 모델 성능과 효율을 조정할 수 있도록 지원한다.
하이라이트
- 노타는 6월 21일 미국 산호세 Arm 크리에이트 2026에서 글로벌 개발자 대상 'Arm AI 모델 옵티마이저' 실습 워크숍을 지원했다.
- ‘Arm AI 모델 옵티마이저’는 넷츠프레소 기반으로, Arm AI 포털에 포함되어 연산량·메모리 사용량을 줄이고 실행 효율을 높인다.
- 노타는 제품 기능 개선과 글로벌 사업 확대를 목표로, 개발자 생태계에 워크숍 및 얼리 액세스 제공 확대를 추진 중이다.
산호세 행사서 진행한 실습 지원
SeDaily에 따르면, 노타는 미국 산호세에서 열린 ‘Arm 크리에이트 2026’에서 글로벌 개발자들을 대상으로 ‘Arm AI 모델 옵티마이저’ 실습 워크숍을 지원했다고 21일 밝혔다.이 도구는 노타의 AI 모델 최적화 플랫폼 ‘넷츠프레소’를 기반으로 개발됐으며, Arm의 개발자 지원 플랫폼인 ‘Arm AI 포털’에 포함돼 있다. 개발자는 AI 모델이 실제로 구동될 반도체나 기기 환경에 맞춰 최적화를 진행할 수 있고, 연산량과 메모리 사용량을 줄여 실행 효율을 높일 수 있다.
이번 워크숍에서는 개발자들이 해당 도구를 활용해 AI 모델을 직접 최적화하고 실행 결과를 확인했다. 또 지원 가능한 AI 모델과 하드웨어 범위, 최적화 전후 성능 비교 방식 등도 함께 논의됐다.
개발자 생태계 기반 사업 확대
현재 Arm AI 모델 옵티마이저는 정식 공개에 앞서 일부 개발자만 사용할 수 있는 얼리 액세스 형태로 제공되고 있다. 노타는 워크숍 이후에도 개발자들이 자체 개발 환경에서 도구를 시험하고 의견을 전달할 수 있도록 지원할 예정이다.회사는 다양한 AI 모델과 하드웨어에서 활용 사례를 확보해 제품 기능을 개선한다는 계획이다. 채명수 노타 대표는 Arm 개발자 생태계에서 확인한 최적화 수요를 바탕으로 넷츠프레소 플랫폼 경쟁력을 강화하고, 기업 고객 도입 지원과 글로벌 사업 기회 확대를 추진하겠다고 밝혔다.
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