산업부, EUV 장비 도입 규제 간소화로 반도체 업계 비용 부담 완화

매일경제 보도에 따르면 산업통상자원부는 이런 내용을 담은 고압가스 안전관리법 시행령 일부개정안이 2일 국무회의에서 의결됐다고 밝혔다. 개정안은 글로벌 안전 기준을 충족하는 반도체 제조장비에 대해 일반 고압가스 제조시설이 아니라 '특정설비' 기준을 적용하는 내용을 담고 있다.

그동안 EUV 장비는 고압가스 배관과 기기를 포함한다는 이유로 현행법상 '고압가스 제조시설'로 분류돼 장비를 들여올 때마다 기술검토와 검사를 받아야 했다. 이 과정에서 장비 도입이 지연되고 기업 부담이 커진다는 현장 의견이 제기됐다.

산업부는 EUV 장비를 특정설비로 전환해 앞으로는 3년마다 공장심사와 종합공정검사를 받으면 기존 안전성을 인정하기로 했다. 이에 따라 기존 34일이 걸리던 검사 기간은 기술검토 15일에서 2일로, 완료검사 7일에서 2일로 줄고 중간검사는 생략돼 전체 소요 기간이 크게 단축된다.

특히 중간검사는 공인검사기관에 의뢰하면서 약 5억원의 비용이 발생했는데, 반도체 기업들은 이 비용을 아낄 수 있게 된다. EUV 장비는 반도체 웨이퍼에 회로를 새기는 노광 공정에 쓰이며, 네덜란드 ASML이 사실상 시장을 독점하고 있고 신형 장비 가격은 대당 5000억원을 넘는다.

반도체 경쟁력과 추가 규제 정비

이번 시행령과 함께 산업부는 시행규칙 개정도 추진해 액화이산화탄소 세정시설의 국내 첫 상용화를 위한 맞춤형 검사 기준도 마련했다. 액화이산화탄소 세정시설은 물과 세제 대신 이산화탄소를 사용하는 설비다.

저위험 고압가스 시설의 안전관리자 선임 기준도 현실에 맞게 조정됐다. 개정안은 다음 주 공포 직후 시행되며, 삼성전자와 SK하이닉스 같은 국내 반도체 기업의 첨단 장비 투자와 생산 일정 관리에 직접적인 도움이 될 것으로 예상된다.

김정관 산업부 장관은 이번 법령 개정이 안전 확보와 첨단산업 경쟁력 강화를 동시에 추진하는 대표적 규제 혁신 사례라고 밝혔다. 반도체 업계에서는 대형 설비 반입에 걸리는 시간과 비용이 줄어들면서 첨단 공정 투자 효율이 높아질 가능성에 주목하고 있다.

저희가 이전에 보도한 EUV 노광장비 설치 절차 간소화 조치에서는, 정부가 EUV 장비를 ‘고압가스 제조시설’이 아닌 ‘특정설비’ 기준으로 전환해 기술검토·검사 부담을 줄이겠다는 내용을 다뤘습니다. 이에 따라 설치 기간이 기존 34일에서 9일로 단축되고, 해외 공인검사 비용 등 대당 약 5억원 수준의 비용 절감 효과가 기대된다는 점도 함께 정리했습니다.

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