日经 225 指数攀升至 43,644 点,科技股和权重股领涨

日经 225 指数攀升至 43,644 点,科技股和权重股领涨
日经 225 指数上涨,科技股和大型工业股领涨,逼近楔形天花板

日本股市基准指数周一延续涨势,日经225指数收盘上涨1.45%,至43,644点;东证指数上涨1.06%,至创纪录的3,138点。最新一轮上涨使得日经指数略低于自4月以来引领价格走势的上升楔形的上轨,如果买盘兴趣持续,则仍有空间测试44,500-45,000点区间。

本文翻译自原文。点击此处阅读由我们的通讯员撰写的原文.

亮点

日经 225 指数上涨 1.45%,至 43,644 点;东证股价指数上涨 1.06%,至创纪录的 3,138 点

- 上升楔形完好,20 天和 50 天 EMA 支撑位分别为 42,731 和 42,284

- 政治因素和更好的 GDP 数据提振市场情绪,但贸易风险依然存在

趋势支撑依然稳固。20日指数移动平均线(42,731)和50日指数移动平均线(42,284)持续走高,强化了更广泛的上升趋势。100日均线(41,366)和200日均线(40,131)的支撑位更为强劲,这两个区域今年吸引了更多长期投资者。

日经 225 指数动态(来源:TradingView)

RSI 为 66.7,这是一个看涨读数,也表明市场状况正趋向超买,这提醒人们,在强劲上涨之后出现短暂回调并不罕见。

政治、增长和行业决定了行情走势

首相石破茂周末辞职后,市场基调发生了转变。石破茂辞职最初引发了人们对政策连续性的担忧,但后来又燃起了人们对经济优先事项重新调整的希望。投资者似乎正在权衡可能加速改革的新领导层的前景与短期不确定性的风险。

外部压力点依然存在。与美国相关的关税风险继续笼罩着日本经济支柱汽车行业的前景。谈判进展甚微,出口环境依然脆弱。为应对这一拖累,第二季度GDP年化和季度数据均上修,凸显出国内经济活动保持稳定。国内经济增长走强与外部风险上升的共同作用,塑造了周一选择性风险偏好。

股市普遍上涨,但科技股和大型工业股表现突出。软银集团上涨2.1%,因投资者继续重新评估其科技资产组合的敞口。三菱重工上涨3.3%,因国防和基础设施主题的投资者兴趣重燃。半导体相关股也表现出色,爱德万测试上涨4.4%,Lasertec上涨2.3%,藤仓上涨1.6%,反映出在全球设备和测试市场向好周期中,对芯片相关投资的持续需求。

展望:前方有阻力,下方有支撑

日经指数的短期走势取决于多头能否将指数维持在43,600点上方,并挑战44,500点至45,000点。由于短期和中期均线上涨,且楔形结构依然完好,技术面有利于这一尝试。然而,由于RSI接近67,随着指数接近上方供应,出现短暂盘整的风险有所增加。

关键风险尚未显现。东京领导人的变动以及与美国尚未解决的贸易摩擦,都可能引发市场剧烈波动。任何一方的回调都可能推动该指数跌向首个支撑位,即20日均线42,731点附近,以及50日均线42,284点。若该指数果断跌破这些水平,将把注意力转向41,366点至40,131点区间,该区间是长期趋势支撑位所在。

中期来看,市场格局依然积极。稳定的国内经济增长、主要成分股强劲的资产负债表以及对科技股的持续需求,这些因素共同支撑着日本股市。如果政策清晰度提高且全球风险偏好保持稳定,该指数仍有继续上涨的空间,有望冲向其上涨结构的顶部。

在之前的报道中,我们指出日经指数在消化外部冲击的同时,倾向于尊重趋势支撑位,上行尝试经常在通道顶部和楔形顶部附近受阻。周一的走势符合这一框架:支撑位继续吸引买家,而44,000点左右的阻力位仍然是确认下一轮上涨的障碍。

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