Europäische Kommission genehmigt deutsche Staatshilfen für vier Halbleiterstandorte

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Dan Blystone

vor 8 Stunden

Europäische Kommission genehmigt deutsche Staatshilfen für vier Halbleiterstandorte — EU unterstützt deutsche Chipfabriken

Deutschland treibt die öffentliche Förderung neuer Chip-Produktionskapazitäten voran, nachdem die Europäische Kommission 659 Millionen Euro an Staatshilfen für vier Halbleiterprojekte genehmigt hat. Die Förderung richtet sich an neuartige Anlagen in vier deutschen Bundesländern und soll die Versorgungssicherheit und strategische Autonomie der EU in der Halbleiter-Wertschöpfungskette stärken.

Höhepunkte

Die Europäische Kommission hat direkte Zuschüsse in Höhe von insgesamt 659,3 Millionen Euro für vier Halbleiterstandorte in Baesweiler, Itzehoe, Weilburg und München genehmigt, finanziert aus Bundes- und Länderhaushalten.
Die Empfänger – Element 3-5 (353 Mio. €), Vishay Siliconix Itzehoe (214 Mio. €), KLA-Tencor MIE (74,4 Mio. €) und KETEK (17,9 Mio. €) – müssen ihre Kapazitäten ausbauen, mit Hochschulen und KMU kooperieren und überschüssige Projektgewinne mit Deutschland teilen.
Diese Genehmigungen sind die 15. bis 18. im Rahmen der EU-Chipstrategie; zuvor genehmigte Maßnahmen umfassen rund 14,2 Milliarden Euro an Fördermitteln aus mehreren Mitgliedstaaten.

Dieser Artikel wurde aus dem Original übersetzt. Lesen Sie die Originalversion unseres Korrespondenten hier.

Förderplan für vier deutsche Standorte

Wie von der Europäischen Kommission berichtet, umfasst das genehmigte Paket direkte Zuschüsse für vier neue Halbleiterstandorte in Baesweiler, Itzehoe, Weilburg und München, wobei die Finanzierung aus dem Bundeshaushalt und den jeweiligen Länderhaushalten stammt.

Der größte Zuschuss, 353 Millionen Euro, geht an die Element 3-5 GmbH für ein Werk in Baesweiler, Nordrhein-Westfalen, zur Herstellung von Siliziumkarbid-Epi-Wafern. Die Vishay Siliconix Itzehoe GmbH erhält 214 Millionen Euro für eine Anlage in Itzehoe, Schleswig-Holstein, die sich auf N- und P-Kanal-Silizium-Leistungs-MOSFETs konzentriert.

Die KLA-Tencor MIE GmbH erhält 74,4 Millionen Euro für einen Standort in Weilburg, Hessen, zur Produktion fortschrittlicher optischer Overlay- und Filmmesstechnik. Die KETEK GmbH bekommt 17,9 Millionen Euro für eine Anlage in München, Bayern, zur Herstellung von Silizium-Drift-Detektoren und Graphen-Strahlungseintrittsfenstern.

EU-Chipstrategie und Auswirkungen auf die Branche

Die Kommission erklärt, dass die Maßnahmen die Ziele des Chips Act für Europa und die politischen Leitlinien 2024-2029 unterstützen, indem sie die Produktionskapazitäten in Europa durch als neuartig eingestufte Anlagen erweitern. Sie kommt außerdem zu dem Schluss, dass die Beihilfen notwendig, angemessen und auf nachgewiesene Finanzierungslücken beschränkt sind und nur geringe Auswirkungen auf den Wettbewerb und Handel innerhalb der EU haben.

Unter den mit der Förderung verbundenen Bedingungen verpflichten sich die vier Begünstigten, mit Universitäten, Forschungseinrichtungen, Start-ups und KMU zusammenzuarbeiten, bei Lieferengpässen vorrangig Aufträge zu erfüllen und spezielle Schulungen zur Erweiterung des Fachkräftepools zu entwickeln. Sie stimmen außerdem zu, potenzielle projektbezogene Gewinne mit Deutschland zu teilen, falls die Renditen die aktuellen Erwartungen übersteigen.

Die Genehmigungen sind die 15. bis 18. Kommissionsentscheidungen nach diesen Grundsätzen. Zuvor genehmigte Maßnahmen belaufen sich auf insgesamt rund 14,2 Milliarden Euro an kumulierter Förderung aus verschiedenen Mitgliedstaaten für unterschiedliche Halbleitertechnologien und -anwendungen.

In unserem früheren Artikel haben wir Nvidias Entscheidung behandelt, den Zugang zu seinen fortschrittlichen KI-Chips in Asien durch eine Reduzierung der genehmigten Käufer-„Whitelist“ nach strengeren Compliance-Prüfungen einzuschränken. Dieser Schritt spiegelt eine verstärkte Durchsetzung der US-Exportkontrollen wider, die verhindern soll, dass eingeschränkte Prozessoren über Drittländer an chinesisch verbundene Endnutzer umgeleitet werden, was die Compliance-Anforderungen erhöht und einige Rechenzentrumsprojekte potenziell verlangsamen könnte.

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